※產(chǎn)品特點(diǎn)※
1、 走位能力強(qiáng),適用于形狀復(fù)雜工件的鍍鉻
2、 工作溫度范圍較寬,38-50℃均可正常工作;
3、 陰極電流效率高,沉積速度快,可采用較高的電鍍密度操作;
4、 鍍液對(duì)工件活化能力強(qiáng),不易發(fā)花;
5、 對(duì)雜質(zhì)容忍度高,工藝穩(wěn)定,容易控制。
※鍍液組成和工藝條件※
鉻 酐 鉻酐/ 鉻酐/三價(jià)鉻 |
150–250g/L 150-250 :1 100-150 :1 |
220g/L 200 :1 100 -150 :1 |
鉻走位劑 |
8–12ml/L |
10ml/L |
溫 度 鍍液波美度 陰極電流密度
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38 – 50 ℃ 19 – 23 10 – 20 安培/平方分米
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42 -45 ℃ 19 – 23 15 安培/平方分米
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※設(shè)備要求※
1、 整流器: 要保證足夠的容量,波紋系數(shù) < 5% ; 否則會(huì)影響深鍍能力;
2、 陽極應(yīng)采用鉛錫合金或鉛銻合金,陰極和陽極面積比為 1 比2-3;
※鍍液配制方法※
1、 在清洗過的鍍槽內(nèi)加入三分之二的蒸餾水或去離子水,并加熱到40℃;
2、 將計(jì)算量的鉻酐緩慢加入槽內(nèi),攪拌使其全部溶解;
3、 將鉻走位劑加入鍍液內(nèi),再將水量調(diào)至工作液面,并攪拌均勻;
4、,分析溶液中含量,再根據(jù)溶液中鉻酐和的比例,補(bǔ)加;
5、 采用大陰極、小陽極面積電解處理槽液,以產(chǎn)生所需量的三價(jià)鉻,也可添加或?yàn)⒕?,但要十分小心?/span>
6、 試鍍工件,觀察溶液的覆蓋能力和鍍層的亮度,若符合要求即可投入生產(chǎn)
※添加劑的作用※
鉻走位劑 它是混合型的催化劑,可顯著提高低電位區(qū)的覆蓋能力,還可提高電鍍的沉積速度;
※鍍液維護(hù)※
1、 : 鍍液中的含量極為重要,過高的含量會(huì)使走位變差,低電位區(qū)發(fā)黃;過低的會(huì)使鉻層起彩;
2、 三價(jià)鉻:三價(jià)鉻太高會(huì)使電流效率下降,走位也變差,高區(qū)還會(huì)發(fā)暗或燒焦。太低的三價(jià)鉻則不能電鍍出正常的鉻鍍層。
3、 溫度:溫度太低會(huì)使鍍層發(fā)花或發(fā)霧,太高則使鍍液濃度上升太快;
4、 其它雜質(zhì)影響:
氯離子:氯離子對(duì)鍍鉻極為有害,它會(huì)使鍍層發(fā)花或發(fā)霧,可采用電解方法去除;鐵離子:少量的鐵離子影響不大,但超過10克/升會(huì)使走位能力明顯下降,特別是同時(shí)含有鎳、銅、鋅等金屬雜質(zhì)時(shí),影響更嚴(yán)重。太多的鐵和其它金屬雜質(zhì)可采用素?zé)沾呻娊猓蛳♂屽円旱姆椒ń鉀Q故障。
3、 鉻走位劑光亮劑的補(bǔ)充:
一般情況下,鉻走位劑應(yīng)與鉻酐同時(shí)補(bǔ)充,每添加100公斤鉻酐需要補(bǔ)充4-5升的鉻走位劑如果是原來沒有用走位劑的鉻槽轉(zhuǎn)缸時(shí),應(yīng)加入適量的碳酸鋇將槽中含量降低到1克/升左右,再加入鉻走位劑