上海杰偉機(jī)械制造有限公司（銷售部）

窄縫涂布模頭可以生產(chǎn)出非常薄的涂層以及透明的光學(xué)涂層，同時(shí)可使涂層量保持在非常精確公差范圍內(nèi)，與將涂布液擦拭到基材上的涂布系統(tǒng)不同，我們的窄縫涂布模頭屬于模唇縫隙相對較大（可達(dá)到 0.0762mm）的涂布模頭，由此模唇縫隙抽吸出的液體可形成薄至 1μm 的涂層。窄縫涂布模頭可在涂層厚度只有 0.002mm 或者是 2μm 的情況下，將整個(gè)寬度上的涂層量控制在 5% 左右的公差變化范圍內(nèi)。我們生產(chǎn)的窄縫涂布模頭模唇是固定的，因此可以利用可換的控隙片來改變涂層的厚度和寬度。涂布量從不足 1μm 到 254μm 的涂層厚度。該類模頭可加工各種類型的膠粘劑（包括特殊的透明膠粘劑） 電池、、陶瓷電容器、裝飾表面、電子顯示介質(zhì)、過濾膜、地板、燃料電池、磁性泥漿、醫(yī)療產(chǎn)品、光阻材料、壓敏膠帶、太陽能電池、超導(dǎo)體、撕帶和窗用薄膜等。

窄縫涂布模頭JW-T-A1

　Fixed & Flexible系列涂布模頭相對傳統(tǒng)開放式涂布工藝的優(yōu)點(diǎn)

　　　JWELL設(shè)計(jì)的窄縫模頭涂布系統(tǒng)用于連續(xù)性涂布，具有涂布均勻和無條紋的優(yōu)點(diǎn)，而且與傳統(tǒng)的輥涂工藝相比，可以提高線速度和涂布精度，同時(shí)減小對環(huán)境的影響。另外與傳統(tǒng)的輥涂工藝相比，新設(shè)計(jì)的涂布系統(tǒng)既可作為獨(dú)立的涂布系統(tǒng)使用，也可作為成套涂布工作站的組件。

　　　傳統(tǒng)熱熔膠輥涂工藝的線速度一般不超過360m/min，而JWELL設(shè)計(jì)的狹縫涂布高可以達(dá)到600m/min

　　　窄縫模頭涂布工藝是全封閉的預(yù)先計(jì)量系統(tǒng)，因此與輥涂和其他傳統(tǒng)的開放式涂布系統(tǒng)相比，涂布效率更高，可控性更好。傳統(tǒng)的開放式涂布系統(tǒng)中，輸送到基材表面的膠水實(shí)際上只有一部分被涂布到基材表面上，其余部分都被回收循環(huán)使用?？p口模頭避免了膠水與環(huán)境的接觸，因此既可防止涂布材料在工作場所中排放，也可避免涂布材料本身受到污染。

　　　這種新型模頭采用柔性接觸涂布，即將膠直接涂敷在基材上，是用模唇把膠“涂抹”在基材的表面上。

模頭特點(diǎn)： 模頭唇口經(jīng)過激光局部脈沖硬化處理，經(jīng)過這種工藝處理后的表面硬度高，金相組織細(xì)化，耐磨性優(yōu)于傳統(tǒng)淬火工藝，不會(huì)對模具本身造成任何破壞和變形，能夠保證有效模唇口尖角部分，具體參數(shù)如下：

模體硬度：HRC 27-32 

模唇激光局部硬化處理硬度HRC52-55 

模唇激光局部硬化處理深度度1.5-2mm 

模唇口尖角大?。盒∮?span>10微米

模唇直線度：小于2微米

模唇平面度：小于2微米

窄縫涂布模頭可以生產(chǎn)出非常薄的涂層以及透明的光學(xué)涂層，同時(shí)可使涂層量保持在非常精確公差范圍內(nèi)，與將涂布液擦拭到基材上的涂布系統(tǒng)不同，我們的窄縫涂布模頭屬于模唇縫隙相對較大（可達(dá)到0.0762mm）的涂布模頭，由此模唇縫隙抽吸出的液體可形成薄至1μm 的涂層。窄縫涂布模頭可在涂層厚度只有0.002mm 或者是2μm 的情況下，將整個(gè)寬度上的涂層量控制在5% 左右的公差變化范圍內(nèi)。我們生產(chǎn)的窄縫涂布模頭模唇是固定的，因此可以利用可換的控隙片來改變涂層的厚度和寬度。涂布量從不足1μm 到254μm 的涂層厚度。