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電子保護(hù)膜應(yīng)用自粘膜精品
產(chǎn)品屬性
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì) 如此一來(lái),光學(xué)薄膜技術(shù)在奈米級(jí)尺寸即將到來(lái)的 催促之下,其技術(shù)研究將成為非常重要的關(guān)鍵因素。 目前在積體光學(xué)技術(shù)所能製造的光學(xué)元件,大都是以電光、聲光調(diào)變器、光分離器、分工/解分工器…為主 ,倘若要做到全光式或者多元件的積體光學(xué)元件,不可或缺的便是「奈米光學(xué)薄膜元件」。這當(dāng)中受到關(guān)注 的就是,結(jié)合薄膜技術(shù)及微影技術(shù)(OpticalLithography)所形成的光子晶體(photoniccrystals),使其帶 有週期性的介電質(zhì)分佈結(jié)構(gòu)特性,藉以提高解析度轉(zhuǎn)而製作更微小特徵尺寸,才能擁有在相同單位面積上,有 更高密度下可容納更多的電晶體。
詳細(xì)信息 如此一來(lái),光學(xué)薄膜技術(shù)在奈米級(jí)尺寸即將到來(lái)的 催促之下,其技術(shù)研究將成為非常重要的關(guān)鍵因素。 目前在積體光學(xué)技術(shù)所能製造的光學(xué)元件,大都是以電光、聲光調(diào)變器、光分離器、分工/解分工器…為主 ,倘若要做到全光式或者多元件的積體光學(xué)元件,不可或缺的便是「奈米光學(xué)薄膜元件」。這當(dāng)中受到關(guān)注 的就是,結(jié)合薄膜技術(shù)及微影技術(shù)(OpticalLithography)所形成的光子晶體(photoniccrystals),使其帶 有週期性的介電質(zhì)分佈結(jié)構(gòu)特性,藉以提高解析度轉(zhuǎn)而製作更微小特徵尺寸,才能擁有在相同單位面積上,有 更高密度下可容納更多的電晶體。
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